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粉體鍍膜涂層設備 JGCF1000

一、產品概述

1、適用范圍

?在微米級以上粉體顆粒表面沉積各種納米級單層及多層導電膜、半導體膜、絕緣膜等;

?系統可用于粉體顆粒表面金屬化,由顆粒表面絕緣性質通過在表面涂覆金屬層達到表面導電,例:碳化硅表面鍍鈦,氧化鋁表面鍍鎳等;

?系統可用于粉體顆粒表面反射率的改變,應用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料,例:玻璃微珠鍍氧化鈦等;

?系統可用于粉體顆粒表面層成份改變,應用于新型合金材料改變其中某一成份含量;

?系統可用于粉體顆粒表面沉積新材料,有效提高粉體固化粘結強度,例:金剛石粉鍍鉻等。

2、產品特點:該設備國內首創,為我公司專利技術,粉體顆粒涂覆技術國內領先,微米級粉體包覆率大于90﹪,結合力好;已能實現產品系列化滿足科研及批量化生產之需求。

 

二、技術參數

型號JGCF1000
鍍膜方式磁控濺射
真空腔室Φ600×L1000mm
鍍膜粉量2000克
粉體尺寸≥20um
粉體運動方式槽式震動式,連續進料
濺射源矩形或圓形靶可選
控制方式PC/PLC控制可選
占地面積主機L1620×W1060×H1900mm
總功率≥20KW


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